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    钌靶 钌溅射靶材

    铼金属系列

    咨询电话

    0731-88590085

    产品描述
    参数

    应用

    钌靶主要用于真空镀膜领域

    产品规格

    物理性质

    颜色

    硬,脆的银色稀有金属

    密度

    12.37g/cm³

    熔点

    2250℃

    技术指标

    纯度

    99.95%

    相对致密度

    >99%

    切面平整度

    3.2Ra

    公差

    ±0.1mm

    晶粒度

    均匀

    材质

    Ru

    产品规格

     

    规格01多弧靶:直径<1000mm  厚度>1mm 

    规格02矩形:长度:不限 宽度:不限 厚度:不限  矩形/片材/台阶状(长宽可拼接)

    规格03圆柱:外直径<420mm 内直径>1mm 壁度>1mm 长度>1mm(管材/圆环/旋转靶材)

    规格04:颗粒球型,粉末型

    规格05:根据用户需要进行定制,来样加工,来图加工

    最少起订量

    1件,量大优惠

    交货期

    原材料各种尺寸大量备货,长期供应,质量可靠。

    制作工艺

    真空磁悬浮熔炼 ,浇铸成锭,热机械处理和精密机械加工

    产品用途

    真空镀膜,实验或研究级别用钌靶材,电子,光电,军用,装饰镀,功能薄膜等

    产品优点

    质量可靠,价格优惠

    真空熔炼,提纯制备,纯度高,杂质少

    轧制致密,氧化少,成型可塑

     相对致密度高,晶粒均匀等轴,一致\性高

    产品附件

    正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规发票

    包装方式

    真空包装

     

    典型化学分析

    杂质成分(ppm)

    Os

    Pt

    Ni

    Fe

    Si

    Pd

    Ti

    As

    4

    2

    2

    5

    8

    2

    2

    2

    Bi

    Cu

    Zr

    Ca

    Zn

    Se

    Mg

     

    2

    2

    2

    2

    2

    2

    2

     

    杂质成分(低于仪器检测范围)(ppm)

    V

    Sn

    Rh

    Ir

    Mo

    Ag

    Cd

    Sb

    <2

    <2

    <2

    <2

    <2

    <2

    <2

    <2

    Mn

    Al

    Co

    Te

    Au

    B

    Pb

    Cr

    <2

    <2

    <2

    <2

    <2

    <2

    <2

    <2

    关键词:
    钌靶
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    半导体靶材
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